二硫化锡（SnS2）CVD薄膜

六碳科技生产的二硫化锡薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在多种基底上沉积孤立晶粒、单层或多层薄膜。

应用领域：

光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。

包装及规格

10*10mm,15*15mm,20*20mm, 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。

典型客户包括：

MIT、加州理工、斯坦福大学；
牛津大学、曼彻斯特大学；
首尔大学、韩国科学技术院（KAIST）、成均馆大学；
东京工业大学、村田制作所
清华大学、北京大学、中科院半导体所
等世界一流研究机构。

二硫化锡薄膜

二硫化锡孤立晶粒