铜基六方氮化硼薄膜

六碳科技生产的铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法(CVD),在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

主要规格:

品名 基底 基底厚度(um) 尺寸(cm*cm) 生长方法
SC-0510hBN-01 高纯铜箔 50(可定制) 5*10 化学气相沉积
SC-1010hBN-02 高纯铜箔 50(可定制) 10*10 化学气相沉积
SC-1010hBN-04 高纯铜箔 50(可定制) 10*20 化学气相沉积
SC-hBN-C 铜箔 定制 定制 化学气相沉积