二硫化钼(MoS2)是和石墨烯类似的层状二维结构薄膜。与石墨烯不同的是,二硫化钼具有禁带宽度,单原子层厚度的二硫化钼薄膜是直接带隙半导体,带隙~1.8eV,双层及大于双层的二硫化钼薄膜则是间接带隙半导体,随着层数增加,带隙逐渐减小到1.2eV.
二硫化钼薄膜主要用于光电等领域。
六碳科技生产的二硫化钼薄膜采用化学气相沉积法(CVD),在多种基底,例如 氧化硅硅片、硅片、光学石英片、云母片、光学蓝宝石片等基材上沉积单层和多层二硫化钼薄膜。也可以根据工艺和客户要求来沉积多种基底的二硫化钼薄膜。
品名 | 基底 | 尺寸 | 生产方法 |
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SC-MoS2-0101Q | 石英 | 定制 | 化学气相沉积 |
SC-MoS2-0101SiO2 | 二氧化硅/硅 | 定制 | 化学气相沉积 |
SC-MoS2-0101Sph | 蓝宝石 | 定制 | 化学气相沉积 |
SC-MoS2-C | 定制 | 定制 | 化学气相沉积 |